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田邉功/著 -- 工業調査会 -- 2006.12 -- 549.8

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所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
一般資料 5498/T6/2 1106880782 一般 貸出可 在庫 iLisvirtual

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種別 図書
タイトルコード 1100085830
タイトル 入門*フォトマスク技術 
タイトルカナ ニュウモン*フォトマスク ギジュツ
副書名 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
著者 田邉功 /著, 竹花洋一 /著, 法元盛久 /著  
著者カナ タナベ イサオ
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年 2006.12
ページ数 323p
大きさ 21cm
一般件名 半導体
NDC分類(8版) 549.8
ISBN 4-7693-1259-8 国立国会図書館 KGWAP5502 GoogleBooks WebcatPlus
定価 3800円