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高橋清/〔ほか〕編著 -- 工業調査会 -- 1994.3 -- 549

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所蔵場所 請求記号 資料番号 資料区分 帯出区分 状態
書庫 5490/T3/2 1103994669 一般 貸出可 在庫 iLisvirtual

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種別 図書
タイトルコード 1104099576
タイトル 光励起プロセスの基礎 
タイトルカナ ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ
副書名 プロセスの低温・無損傷化を実現
著者 高橋清 /〔ほか〕編著  
著者カナ タカハシ キヨシ
出版地 東京
出版者 工業調査会
出版年 1994.3
ページ数 266p
大きさ 21cm
一般件名 電子材料 , 光化学
NDC分類(8版) 549
ISBN 4-7693-1122-2 国立国会図書館 KGWAP5502 GoogleBooks WebcatPlus
定価 ¥3398
内容注記 各章末:参考文献